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产品系列
光反射薄膜测厚仪
原产国:美国
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器,近几年,每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同,测量范围可以从10nm到250um,它**可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度(其中一层为基底材料)。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。
应用领域
理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们*熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):
□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);
□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;
□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm);
□ DVD/CD涂层;
□ 光学镜头涂层;
□ SOI硅片;
□ 金属箔;
□ 晶片与Mask间气层;
□ 减薄的晶片(< 120μm);
□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层;
□ 薄膜工业的在线过程控制;等等…
软件功能
丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。
软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s。
软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。
软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。
软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。