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产品系列
产品描述
产地:美国,韩国;
型号:PS-100, EURA-100;
等离子去胶机主要用于光刻胶的剥离或灰化,也可用于:
1.有机及无机残留物的去除
2. 去除残胶以及等离子刻蚀的应用
3.清洗微电子元件、电路板上的钻孔或铜线框架
4.提高黏附性,消除键合问题
5.塑料的表面改性:O2处理以改进涂覆性能
6.产生亲水或疏水表面等
主要配置:
1.载片(Wafers):直径不大于100 mm(或200mm)的各种基片
2.工艺气体(Gas lines):O2, N2
3.射频源(Source):50 ~ 500W(13.56 MHz)连续可调,全自动匹配
4.气体流量(Gas flow):MFC精确调控
5.产能:每次20片,每个循环约5分钟(辉光1分钟)
6.可升级到反应离子蚀刻(RIE)功能
参考用户:
广东工业大学等;