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高温沉积系统(PECVD or Sputter)
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暂无
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美国
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上海载德半导体技术有限公司
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产品简介
技术规格:
- 基底尺寸:10cm x 10cm;
- 温度:800摄氏度;
- PECVD(等离子体增强化学气相沉积)或者Sputter(磁控溅射镀膜);
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