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Ecopia HMS-3300高温霍尔效应测试仪
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Ecopia HMS-7000光霍尔效应测试仪
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EPS-300手动探针台
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半导体行业专用仪器
喷射化学气相沉积设备(Spray CVD)
石墨烯生长炉
低压化学气相沉积系统(LPCVD)
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反应离子刻蚀机RIE
Harrick Plasma等离子清洗机
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光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner)
等离子体热处理炉
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WEP CVP21电化学C-V剖面浓度分析仪- ECV Profiler
QCM-I耗散型石英晶体微天平
OWLS光波导模式谱仪
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SKP5050扫描开尔文探针系统
Rame Hart接触角测量仪
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光谱检测分析仪
激光拉曼光谱仪
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光谱型椭偏仪Ellipsometer
包装行业专用仪器
MEMS用高真空密封机
相关仪表
变场磁体Variable Flux Magnet
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公司介绍
上海载德半导体技术有限公司是专业的半导体及微电子领域仪器设备供应商,上海载德所代理的仪器设备广泛用于高校、研究所、半导体高新企业。
上海载德半导体技术有限公司目前代理的主要产品包括:
- 霍尔效应测试仪(Hall Effect Measurement System);
- 快速退火炉(RTP);
- 回流焊炉,真空烧结炉(Reflow Solder System);
- 探针台(Probe Station),低温探针台(Cryogenic Probe Station);
- 贴片机(Die Bonder),划片机(Scriber),球焊机/锲焊机(Wire Bonder);
- 原子层沉积系统(ALD),等离子增强原子层沉积设备(PEALD);
- 磁控溅射镀膜机(Sputter),电子束蒸发镀膜机(E-beam Evaporator),热蒸发镀膜机(Thermal Evaporator),脉冲激光沉积系统(PLD) ;
- 低压化学气相沉积系统(LPCVD),等离子增强化学气相沉积系统(PECVD),快速热化学气相沉积系统(RTCVD);
- 反应离子刻蚀机(RIE),ICP刻蚀机,等离子体刻蚀机;
- 致冷机/低温恒温器(Cryostat/Cryocooler);
- 加热台、热板、烤胶台 (Hot Chuck / Hot Plate);
- 扫描开尔文探针系统(Kelvin Probe),光反射膜厚仪(Reflectometer);
- 高温超导磁体(HTS Magnet),快速场循环核磁共振弛豫测试仪(FFC Reflexometer);
主营产品
半自动/全自动探针台、MEMS用高真空密封机、石墨烯生长炉、SKP5050扫描开尔文探针系统、光刻机/紫外曝光机(Mask Aligner)、ARS气体混合低温恒温器、喷射化学气相沉积设备(Spray CVD)、WEP CVP21电化学C-V剖面浓度分析仪- ECV Profiler、反应离子刻蚀机RIE、Harrick Plasma等离子清洗机、光反射薄膜厚度测量仪、光谱型椭偏仪Ellipsometer、半自动球焊机,焊线机(Wire Bonder)、离子束刻蚀系统IBE、SPS-2200手动探针台、OWLS光波导模式谱仪、非接触方块电阻测试仪、光刻机、闭循环致冷机、低温恒温器、液氦液氮低温恒温器(开循环)、顶端装样方式低温恒温器(Top Loading)、Rame Hart接触角测量仪、变场磁体Variable Flux Magnet、QCM-I耗散型石英晶体微天平、激光拉曼光谱仪、等离子去胶机、超高真空闭循环致冷机、等离子体热处理炉、半自动/全自动真空探针台、金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)等产品。